[內層][半自動]
平行光曝光機
[內層][半自動]
平行光曝光機
產品型號：UVE-M535F
產品聯絡人
(台灣)廖先生
- 適用範圍：
製程板尺寸：254x305mm(10″x12″)~560x636mm(22″~26″)
製程板厚度：0.1~2.0mm
底片尺寸：24″x27″ - 機台外型(W/D/H)：1316/3300/2140+120(mm)
- 機台內建電壓、電流、功率及UV強度感測器
- 檯面真空-200~-500mmHg、檯面高真空特性
- 高強化檯框玻璃
- 智慧型中(英)文可選人機操作平台
- 雙面曝光產速高
- 動作異常時，具即時警報提示功能
檔案下載
| 檔案 |
|---|
| 下載型錄 |
