[內外層共用][手動]
平行光曝光機
[內外層共用][手動]
平行光曝光機
產品型號：UVE-M552
產品聯絡人
(台灣)廖先生
- 適用範圍：
製程板尺寸：610x762mm(24″~30″)
製程板厚度：0.1~3.175mm - 機台外型(W/D/H)：1400+258/3460/2080+100(mm)
- 高強化檯框玻璃
- 智慧型中(英)文可選人機操作平台
- 雙面曝光，產速高
- 結構簡單，保養容易
- 檯面高真空，解析能力高(-700mmHg以上)
- 動作異常時，即時警報提示功能
