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散射光大檯面曝光機
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散射光大檯面曝光機
產品型號：UVE-A282
產品聯絡人
(台灣)廖先生
- 適用範圍：
製程板尺寸：254x305mm~609.6x762mm(10″x12″~24”~30″)
製程板厚度：0.05~2mm
底片尺寸：26″x32″ - 機台外型(W/D/H)：3540/2750/2305(mm)
- 高精度：檯面對位精度3σ<10μm
- 入料傳動為非接觸式磁環設計+SUS拋光滾輪
- 高剛性底座與帶板結構，強化機台穩定性
- 伸縮式視覺與背光模組，提高最大板邊利用率
- 高解析台框設計
- 新型對位演算法，保證均分底片誤差
- 散射光使用低耗能6kw燈管
- 雙面同時曝光
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