[內層][自動]
平行光曝光機

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平行光曝光機

產品型號:UVE-A260
  1. 適用範圍:
    製程板尺寸:254×304.8mm(10″x12″)~558.8x635mm(22″~25″)
    製程板厚度:0.05~2mm
    底片尺寸:24″x27″
  2. 機台外型(W/D/H):2840/2900/2237.5(mm)
  1. 高產速:機械動作時間8秒
  2. 高精度:檯面對位精度3σ<10μm
  3. 高解析:平行光線路解析2mi/2mi保證
  4. 全機Class1000無塵等級
  5. 入出料傳動磁力環設計無產塵疑慮
  6. 高剛性底座強化機台穩定度
  7. PassLine高度950~1030mm符合無塵需求
  8. 移動式視覺與背光模組提高最大板邊利用率
  9. 新型對位演算法,保證均分底片誤差
  10. 曝光室環境控制系統有效增加A/W穩定
  11. 線性馬達移載系提高無塵度、精度、速度

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