[內外層共用][手動]
平行光曝光機

[內外層共用][手動]
平行光曝光機

產品型號:UVE-M552
  1. 適用範圍:
    製程板尺寸:610x762mm(24″~30″)
    製程板厚度:0.1~3.175mm
  2. 機台外型(W/D/H):1400+258/3460/2080+100(mm)
  1. 高強化檯框玻璃
  2. 智慧型中(英)文可選人機操作平台
  3. 雙面曝光,產速高
  4. 結構簡單,保養容易
  5. 檯面高真空,解析能力高(-700mmHg以上)
  6. 動作異常時,即時警報提示功能

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