[内外层][手动]
平行光曝光机
[内外层][手动]
平行光曝光机
SKU：UVE-M552
产品联络人
(台湾)廖先生
1.适用范围：
制程板尺寸：610x762mm(24″~30″)
制程板厚度：0.1~3.175mm
2.机台外型(W/D/H)：1400+258/3460/2080+100(mm)
1.高强化台框玻璃
2.智能型中(英)文可选人机操作平台
3.双面曝光，产速高
4.结构简单，保养容易
5.台面高真空，解析能力高(-700mmHg以上)
6.动作异常时，实时警报提示功能
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