WLP/PLP 光阻去除机

WLP/PLP 光阻去除机

SKU:HDPR-WLP1000-300/HDPR-PLP1000-500

1.适用于8″/12″晶圆及大尺寸板

2.系统可选择2个或4个制程腔

3.稳定的传输系统

4.可选择3种制程模式:微波、射频、两者饼用

5.独特的流场设计

6.优异的均匀性和稳定性

7.全面数位控制系统,具连网功能

8.配置Windows 系统PC

9.精简的设计及高生産量,达成最佳化的性能表现

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