[内层][自动]
散射光大台面曝光机
[内层][自动]
散射光大台面曝光机
SKU：UVE-A282
产品联络人
(台湾)廖先生
1.适用范围：
制程板尺寸：254x305mm~609.6x762mm(10″x12″~24”~30″)
制程板厚度：0.05~2mm
底片尺寸：26″x32″
2.机台外型(W/D/H)：3540/2750/2305(mm)
1.高精度：台面对位精度3σ<10μm 2.入料传动为非接触式磁环设计+SUS抛光滚轮 3.高刚性底座与带板结构，强化机台稳定性 4.伸缩式视觉与背光模块，提高最大板边利用率 5.高解析台框设计 6.新型对位算法，保证均分底片误差 7.散射光使用低耗能6kw灯管 8.双面同时曝光
档案下载
| 档案 |
|---|
| 下载型录 |
