[内层][自动]
平行光大台面曝光机
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平行光大台面曝光机
SKU：UVE-A230
产品联络人
(台湾)廖先生
1.适用范围：
制程板尺寸：254x305mm~609.6x762mm(10″x12″~24”~30″)
制程板厚度：0.05~2mm
底片尺寸：26″x32″
2.机台外型(W/D/H)：3540/2750/2305(mm)
1.高精度：台面对位精度3σ<10μm 2.入料传动为非接触式磁环设计+SUS抛光滚轮 3.高刚性底座与带板结构，强化机台稳定性 4.高解析台框设计 6.新型对位算法，保证均分底片误差 7.平行光使用低耗能5kw灯管 8.双面同时曝光
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