[内层][半自动]
平行光曝光机
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平行光曝光机
SKU：UVE-M535F
产品联络人
(台湾)廖先生
1.适用范围：
制程板尺寸：254x305mm(10″x12″)~560x636mm(22″~26″)
制程板厚度：0.1~2.0mm
底片尺寸：24″x27″
2.机台外型(W/D/H)：1316/3300/2140+120(mm)
1.机台内建电压、电流、功率及UV强度传感器
2.台面真空-200~-500mmHg、台面高真空特性
3.高强化台框玻璃
4.智能型中(英)文可选人机操作平台
5.双面曝光产速高
6.动作异常时，具实时警报提示功能
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