[内外层][手动]
平行光曝光机

[内外层][手动]
平行光曝光机

SKU:UVE-M552
产品联络人
(台湾)廖先生
(大陆)蔡先生

1.适用范围:
制程板尺寸:610x762mm(24″~30″)
制程板厚度:0.1~3.175mm
2.机台外型(W/D/H):1400+258/3460/2080+100(mm)

1.高强化台框玻璃
2.智能型中(英)文可选人机操作平台
3.双面曝光,产速高
4.结构简单,保养容易
5.台面高真空,解析能力高(-700mmHg以上)
6.动作异常时,实时警报提示功能

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