[内层][自动]
散射光大台面曝光机

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散射光大台面曝光机

SKU:UVE-A282
产品联络人
(台湾)廖先生
(大陆)蔡先生

1.适用范围:
制程板尺寸:254x305mm~609.6x762mm(10″x12″~24”~30″)
制程板厚度:0.05~2mm
底片尺寸:26″x32″
2.机台外型(W/D/H):3540/2750/2305(mm)

1.高精度:台面对位精度3σ<10μm
2.入料传动为非接触式磁环设计+SUS抛光滚轮
3.高刚性底座与带板结构,强化机台稳定性
4.伸缩式视觉与背光模块,提高最大板边利用率
5.高解析台框设计
6.新型对位算法,保证均分底片误差
7.散射光使用低耗能6kw灯管
8.双面同时曝光

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