[内外层][半自动]
平行光曝光机
[内外层][半自动]
平行光曝光机
SKU：UVE-M565F
产品联络人
(台湾)廖先生
1.适用范围：
制程板尺寸：305x355mm(12″x14″)~546x622mm(21.5″~24.5″)
制程板厚度：0.1~3.2mm
底片尺寸：24″x27″
2.机台外型(W/D/H)：1545/3513/2270(mm)
1.高解析台框设计
2.4或2CCD自动对位
3.左右对照式保护光闸设计
4.高产速、高产能
5.曝光均匀度达85%以上
6.底片更换时间≦5min
7.曝光室温度控制22℃±2℃，湿度控制55%±5%
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